第61章 PCT专员（2/2）

汉斯的目光像雷达一样精准地扫过那些重点参数：

光源波长：13.42 nm (稳定)

光源输出功率：xxx kw

光源转化效率：31.8%(实时)

能量密度：xxx mj/cm2

稳定性指標：< 0.005%(波动)

曝光晶圆累计：第xxx片(持续运行)

实测线宽：7.3 nm (套刻精度< 2.0 nm)

“我的上帝啊！”

一声无法抑制，充满极度震惊和难以置信的惊呼。

如同被掐住脖子的鸭子发出的嘶鸣，猛地从汉斯喉咙里爆发出来！

他完全忘记了身处何地！

他用力揉搓著自己的眼睛，仿佛屏幕上的数据是恶魔製造的幻象！

他再看！

再看！

那恐怖的转化效率！

那稳定的13.5纳米以下波长！

那足以支撑7纳米量產的实测线宽！

这些数据每一项都像一记重锤，狠狠砸在他作为asml技术总监的骄傲和认知上！

这怎么可能？！

这完全顛覆了现有光刻技术的物理和工程极限！

这根本就不是他们asml的euv技术路线！

这是……这是全新的、划时代的、足以彻底埋葬现有光刻体系的怪物！

他像一尊石化的雕像，整张脸死死贴在玻璃上。

眼神呆滯，嘴巴无意识地张开，大脑一片空白……

只剩下屏幕上那冰冷而恐怖的数据在疯狂旋转！

他亲眼看著那台机器流畅地运作，看著那束他无法理解的光源系统稳定地输出著毁灭性的能量！

他仿佛看到了asml帝国大厦的根基，正在这遥远东方的实验室里，被这台简陋外壳包裹的怪物，一寸寸地瓦解！

这声失態的惊呼，在安静的核心区域如同平地惊雷！

超净间內，所有交谈瞬间停止！

魏天华、陈进一、严正行、戴维·诺顿以及所有pct专员、工程师……

所有人的目光如同探照灯般，齐刷刷地射向了汉斯藏身的那个观察窗口！

糟了！

当汉斯意识到麻烦时，已经无可挽回。

他看到魏天华脸上的血色唰地一下褪得乾乾净净，变得惨白！

对方眼中爆发出毫不掩饰的惶恐与惊怒！

那眼神，再没有一丝一毫先前在机房时的谦卑或虚心。

那是被触及核心逆鳞的狂暴！

“谁？！警报！拉响最高警报！！”

魏天华几乎是嘶吼出声。

令人心悸的最高级別入侵警报瞬间响彻整个核心区域！

走廊里红光疯狂闪烁！

沉重且密集的脚步声如同战鼓般从四面八方传来！

是那些全副武装的安保人员！

“快！保护现场！封锁所有数据！”

魏天华对著身边的工程师和pct专员大吼。

隨后和陈进一、严正行以及戴维·诺顿一起，以最快速度冲向观察窗所在的位置！

汉斯被这突如其来的变故和刺耳的警报嚇得魂飞魄散！

他猛地从震惊中回过神来，下意识地想后退逃离，但双脚却像灌了铅。

他看到魏天华等人冲了出来，脸上带著前所未有的可怕怒容。